UFER (Ultra Fast Epoxy Removal) – Verfahren zur ultraschnellen Epoxidentfernung
((a) R3T GmbH und (b) micro resist technology GmbH)
 
Epoxidharzbasierter Photoresist SU-8 hat bislang konkurrenzlos gute lithographische Strukturierungseigenschaften für die Herstellung von Mikrokomponenten (z.B. mikromechanischer Bauteile). Wesentlicher Nachteil war bisher, dass dieser Resist nur äußerst schwierig entfernt werden konnte, ohne die Mikroteile zu beschädigen. Nach einer Lösung wurde mehr als 10 Jahre weltweit gesucht. Mit dem Projektergebnis, der Ätzanlage STP 2020 können nun solche Epoxid-Photoresiste (wie z.B. SU-8) wirtschaftlich und reproduzierbar entfernt werden, was auch einen Durchbruch zu vielen neuen Anwendungen dieser Resiste bedeutet.
 
Stand: 12.09.2008
Siehe auch: http://(a) www.r3t.de, (b) www.microresist.de